Metatungstate de amonio en la industria electrónica

El metatungstate de amonio es una fuente de tungsteno soluble en agua de alta pureza, que está esencialmente libre de álcali y otras impurezas metálicas. Metatungstate de amonio es muy versátil y puede ser utilizado como catalizadores, condensadores, blindaje nuclear, ignífugos, inhibidores de la corrosión de las materias primas, sino también excelentes materias primas en la preparación de polvo de tungsteno ultra fino, polvo de aleación pesada de tungsteno, ácido fosfotúngstico, Silicio tungstato.

1.Condensador. El condensador consta de dos electrodos y material dieléctrico. El material dieléctrico es un tipo de dieléctrico, cuando se instala en campo eléctrico entre los electrodos de placas paralelas con la misma cantidad de electrodo opuesto, debido a la polarización hay carga de polarización aparece en la superficie dieléctrica. Que aumentan la carga eléctrica en la placa polar, la diferencia de potencial entre placas polares permanece igual; Esta es la razón por la cual el condensador tiene las características de la capacitancia. Carga y descarga es la función básica del condensador. El metatungstate del amonio como la materia prima del condensador le hará de una propiedad más alta, tangente de la pérdida baja, capacidad alta y alta temperatura resistente.

2.Proteger. El escudo de aleación de tungsteno se utiliza para proteger el material radiactivo y evitar daños. Hay un montón de tipos de escudo de aleación de tungsteno que se aplica en la industria médica, nuclear y la investigación científica. El metatungstate del amonio es materia prima para la aleación del tungsteno, sinterizando es el método principal para producir la aleación del tungsteno. El proceso de sinterización afecta la propiedad del escudo de aleación de tungsteno. Después de la sinterización, el polvo se une, la capacidad de resistencia mejora, también la densidad.

3.Sustrato de película fina para dispositivo semiconductor. El metatungstate de amonio utilizado como materia prima del substrato de película delgada para el dispositivo semiconductor mejorará su propiedad. La película fina crece sobre el sustrato, las propiedades del material del sustrato y las características de la superficie del substrato tienen un gran impacto sobre la película, debido a que el espesor de la película es entre nanómetros a micrómetros, la superficie del sustrato se requiere para una alta planitud; La combinación de la pelıcula y el sustrato es también un aspecto muy importante, si el desajuste de retıculo, al comienzo de la etapa de formación de pelıcula, formará una zona de transición larga.